现在的光刻机还是很原始的，这两台dc400，首先把放在玻璃夹子里面的底片，扣好。

　　就像洗照片一样按照光刻胶上的图案进行“刻蚀“，就是倒进铁水……不是啦，那些元素的离子。

　　叶回舟觉得这工艺，就跟往车子上喷字很像，也和他在东方红做集成电路板很像。

　　这工艺比较简单，只要是干电子厂倒模刻蚀的人都会了。

　　在微光电子厂的芯片车间制造一些芯片时，高工就是这样干的，只不过没有无尘车间，封装时良品率极低。

　　高工跟他讲，在20年前就出现了光刻机这种类型的设备，开始是上百微米，后来是几微米。

　　这种工艺最高级的可以做到刻出1微米的字。

　　人的头发直径是60-90微米，有的人认为这太精细了，够用了够用了。

　　高兴不了多久就高兴不起来了。

　　还是不够用，还要细才行。

　　但是老工艺接触式光刻，到此到头了。

　　再细，不行了，那就涉及纳米级别。

　　1微米=1000纳米。

　　据传闻现在，魔都电子研究所已经开发出纳米级别的光刻机，至于是不是真的，反正叶回舟也得不到。

　　摩尔定律为芯片产业的发展指明了道路和奋斗目标，芯片制程的演化，从微米、亚微米、深亚微米，到193nm、157nm、90nm。

　　再到叶回舟穿过来已经有，12nm、7nm、4nm，甚至连1nm都在研制中。

　　这也肯定了，这几十年半导体还是按照摩尔定律演进。

　　当然随着硅基芯片进入10nm以下，越来越接近物理极限，摩尔定律即将在硅基芯片上失效。

　　下一代在研芯片是碳基芯片和量子芯片。

　　不过80年代初的芯片，就连今年才英特尔才出的，制作的才是1.5微米，后年的才是一微米。

　　到了芯片才是真正跨入了纳米的世界。

　　叶回舟来了这大半年，很多资料显示，大陆的半导体产业虽然没有超越当时世界最先水平，但是差距并不大。

　　更重要的是，打造了从单晶制备、设备制造、集成电路制造的全产业链，基本不依赖国外进口。

　　也就是说，80年代前期大陆以一国的供应链去追赶整个西方发达国家联盟的供应链。

　　要知道，现在英特尔也是用的岛国的光刻机。

　　当然现在国家没有拨款，各大研究机构都停止了研发。

　　叶回舟只能买一些半导体的加工设备，在小峡谷里自己搞研发，争取两年之内。

　　光刻机要突破到，纳米级别，然后制作计算机芯片。

　　不要，不要，直接就搞了。

　　有了芯片，那才叫值得飞跃，他想一想就心潮澎湃。

　　此时光刻机底片上涂的光刻胶放在无尘的光刻机洁净室里，等会儿要制作点亮小灯珠的pn芯片。

　　王宏源跟旁边充满了好奇的聂同学说道：“聂女士，这个光刻机要生产出芯片来首先在硅片上覆盖一层薄膜。

　　涂上光刻胶，然后用强光电路图的光照打在光刻胶上，强光会破坏光刻胶上的结构了。

　　但光罩被遮挡的部分不会被破坏，光罩也就拷贝到光刻胶上。

　　最后就是冲蚀，溶解掉没有被光刻胶覆盖的薄膜以及剩下的光刻胶，晶圆就只留下与电路图，图形一模一样的薄膜了。

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